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NE-MW05是一款結構緊湊、高性能的小型桌面式微波等離子清洗機，專為研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)應用而設計，設備使用最新的性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精確控制，主要用于半導體、光學、電子、生物芯片等領域?qū)Ω鞣N材料表面進行微觀清潔、活化、改性、去氧化、去膠等應用。  

NE-MW05依靠微波等離子體技術，微波等離子體具有高電離度和離解度能產(chǎn)生更多的活性粒子，從而提高清洗速率，同時微波等離子清洗機本身沒有內(nèi)部電極從而消除了電極在放電區(qū)域存在而帶來的電極材料污染，有利于高純化學反應和延長使用壽命，適應于作高純度物質(zhì)的制備和處理。并且整個放電過程不需要正負電極，產(chǎn)生的自偏壓極小，等離子體中離子能量低，最大程度的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電（ESD）中，從根本上避免了產(chǎn)品表面損傷，因此微波等離子清洗技術非常適合于在半導體芯片封裝中應用。