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影響等離子去膠效果的工藝參數(shù)有很多，主要包括工藝氣體及流量，射頻功率，射頻頻率，去膠時(shí)間，真空壓力值以及腔體溫度。具體各參數(shù)對(duì)等離子去膠效果的影響如下:

1) 工藝氣體及流量:

工藝氣體如氧氣、氬氣、四氟化碳等，其流量的多少直接影響電離后能夠生成的等離子體數(shù)量的多少。氧氣作為灰化化學(xué)反應(yīng)中最主要的介質(zhì)氣體，流量越大，腔體內(nèi)氧氣離子密度也就越高，與晶圓接觸機(jī)會(huì)也增大，灰化反應(yīng)更快；但氧氣流量太大，腔體內(nèi)氧氣離子密度太高，離子的復(fù)合程度也變高，整個(gè)腔體的電離強(qiáng)度也隨著電子運(yùn)動(dòng)的自由程縮短而降低。

2) 射頻功率:

功率決定了氣體形成離子態(tài)的能量大小，功率越大能夠激發(fā)越多的氣體形成離子態(tài)，從而提高腔體內(nèi)活性離子的密度，提高灰化速率，去膠清洗效果越明顯，但其余參數(shù)不變的前提下，功率越大，腔體內(nèi)溫度越高，且當(dāng)氣體流量達(dá)到飽和后，一定射頻功率能激發(fā)的離子體也會(huì)達(dá)到飽和，需根據(jù)實(shí)際條件配合氣體流量及工藝要求選擇。

3) 射頻頻率:

作為等離子激發(fā)的能量源，激勵(lì)源的頻率一般選擇13.56MHz和2.45GHz。激勵(lì)源的頻率影響工藝氣體的電離程度，氣體形成等離子體的程度會(huì)隨著射頻頻率的增加而增大，但是過高的頻率，會(huì)導(dǎo)致電子振幅縮短，當(dāng)振幅比電子自由程還短時(shí)，電子與氧氣分子碰撞機(jī)率也會(huì)大大降低，影響最終電離率。

4) 清洗時(shí)間:

其余參數(shù)不變的前提下，清洗時(shí)間越長(zhǎng)，去膠效果自然越明顯，但是過長(zhǎng)的時(shí)間會(huì)造成腔體溫度會(huì)增加，伴隨著溫度升高，對(duì)某些不耐高溫及易損工件會(huì)造成損壞，因此不適宜長(zhǎng)時(shí)間清洗。

5) 真空度:

腔體內(nèi)的真空度會(huì)影響工藝氣體的電離程度，真空度越高，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程越大，能量也就越大，越有利于電離。但是過高的真空度反而會(huì)造成氣體離子密度降低，從而使去膠效果變差。

6) 腔體溫度:

腔體溫度同樣能夠影響等離子去膠速率，溫度越高，反應(yīng)腔內(nèi)氣體離子越活躍，化學(xué)反應(yīng)越劇烈，去膠效果也越好。但是過高的腔體溫度，一方面會(huì)使均勻性變差；另一方面可能對(duì)其基底本身造成損傷，影響灰化后的成品率，因此要嚴(yán)格控制腔體的溫度，為去膠清洗工藝營(yíng)造一個(gè)良好的環(huán)境。

據(jù)實(shí)驗(yàn)測(cè)試統(tǒng)計(jì)，在影響等離子去膠效果的工藝參數(shù)中，溫度對(duì)等離子去膠的速率影響最大，其次是射頻功率、工藝氣體流量，排在最后的是真空度，并且這些參數(shù)基本都呈現(xiàn)出正比關(guān)系。